ソフトウェアパターン勉強会14回
(社)情報処理学会 ソフトウェア工学研究会 パターンワーキンググループ
http://patterns-wg.fuka.info.waseda.ac.jp/index.html
の中のソフトウェアパターン勉強会に参加してきました。
前回から出たかったのですが、諸事情で^^;今回から参加です。
中身のまえに、IBMの箱崎事業所で行われたのですが、
とてもいいとこでした。いいなぁ太田さんってかんじですw)
で、今回のテーマはJ2EEパターン。
のなかでも、レイヤーアーキテクチャとプレゼンテーションレイヤについてです。講師は山野さんという、オージス総研の方でした。
時間の関係で、今回はレイヤーアーキテクチャのみでしたが、
非常に考えさせられる、いい勉強会になりました。
なぜ、レイヤーアーキテクチャがいいのか?
どういう状況にあわせて分離したらよいのかなど、
小さいグループに分かれてディスカッションすることもできて、
ほんと有意義な2時間半でした。
今回の勉強会でわかったことは、
レイヤーアーキテクチャとは、
抽象度の異なる要素を分割し、階層化するアーキテクチャ
- 抽象度の異なる要素を分割⇒作業範囲の分担
- 階層化する⇒責務の明確化
ということ、各プログラマがわかっていれば、
レイヤーって概念は実はいらないかもしれないって、なんとなく思う。
違うかな?
それと、ドメインってやっぱ難しいということ。
なんか一番重要なことなのに、定義がはっきりしない。
この辺はRailsとかやればわかってくるんかしら^^;